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      分子束外延薄膜沉積系統(tǒng)MBE

      簡要描述:v分子束外延,是在超高真空系統(tǒng)中把所需要的結(jié)晶材料放入到噴射爐中,將噴射爐加熱

      基礎(chǔ)信息

      產(chǎn)品型號

      廠商性質(zhì)

      代理商

      更新時間

      2024-10-22

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      詳細介紹

      v 分子束外延,是在超高真空系統(tǒng)中把所需要的結(jié)晶材料放入到噴射爐中,將噴射爐加熱。使結(jié)晶材料形成分子束,從爐中噴出后,沉積在溫度保持在幾的單晶基片上。如果設(shè)置幾個噴射爐,就可以制取多元半導體混晶,又可以同時進行摻雜??梢跃_地控制結(jié)晶生長,進行沉積系統(tǒng)中結(jié)晶生長過程的研究

      v 12個源爐:鎵、銦、鋁、砷、銻、磷、鉍、硅、鎂、摻雜等

      v 襯底:4inch

      v 溫度:1000°C 溫度均勻性:≤±3°C4inch

      v 超高真空下全自動樣品轉(zhuǎn)移

      v 用于過程控制和分析的所有現(xiàn)代現(xiàn)場監(jiān)控功能

      v 一個集群上最多7個超高真空功能單元:裝載、儲存、翻轉(zhuǎn)、處理、排氣、生長,外部腔室

      v 可連接其他分析設(shè)備或其他:ALD、PLD、PVD、金屬化、STM......

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